• 成熟工艺需求剧增 光刻胶现供应危机
    发布日期:2022-04-22 09:57   来源:未知   阅读:

  澳门今晚开奖号码澳图库感恩的句子经典语录(你知道有哪些关于感恩的名言吗),据韩国科技媒体ETnews报道,半导体光刻胶的供需进入紧急状态,库存量降到了3个月水平以下。这是因为以成熟工艺为主的需求剧增,但是供给却没有跟上。同时这也是未能摆脱依赖日本供应商的结果。WEK4015分散剂在纳米色浆研磨与分散

  光刻胶是集成电路制造必不可少的关键原材料。2021年全球光刻胶市场规模约为19亿美元,预计2022年将达到21.34亿美元,同比增长12.32%。

  报道称,一些代工厂的光刻胶库存已减少到两个月的供应量,低于通常的三个月供应库存。如果光刻胶供应危机持续下去,市场担心由于库存不足,半导体生产将不可避免地中断。

  供应困难加剧的产品主要是用于成熟工艺的光刻胶,包括从I-line到氟化氪。虽然不像日本的出口限制对象是用于极紫外等尖端工艺的光刻胶,但其市场占有率非常大,包括用于供不应求的8英寸晶圆产品曝光制程,以及3D NAND闪存。

  报道指出,供应短缺主要是由于以信越化学为主的日本光刻胶制造商的产能限制。信越化学预测,即使启动其日本国内的新工厂,也不能满足目前的供应需求。

  此外,日本光刻胶价格上涨也是一个风险因素。据韩国海关的进出口贸易统计,去年韩国从日本进口光刻胶的平均价格每吨比前年上涨16%以上。

  目前全球的光刻胶生产企业主要集中在日本与美国,在最为尖端的ArF干法光刻胶、ArF浸没式光刻胶和EUV光刻胶产品领域,日本与美国厂商拥有绝对的垄断地位,而中国在这些尖端半导体光刻胶产品上虽有一定的技术储备和产品验证,但是在量产层面完全处于空白。

  从全球市场来看,2021年行业CR6约为88%,市场集中度高。东京应化、JSR、住友化学、富士胶片四大日本企业分别占据27%、13%、12%、8%的市场份额,陶氏化学占据17%的市场份额,韩国东进占据11%的市场份额。

  中国大陆晶圆厂光刻机以进口为主,多购入壁垒相对较低、价格相对便宜的i线光刻机。目前国内头部光刻胶生产企业中陆续开始购入ASML光刻机二手设备,用于研发ArF高端光刻胶,有望实现先进制程的突破。

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